6月6日，由中国电工技术学会与北京奕摩创研院联合主办、清华大学黄播app 与北京集成电路产教融合基地共同承办的“等离子体与芯片制造”前沿交叉论坛在北京亦庄集成电路产教融合基地成功举办。本次论坛旨在促进等离子体技术在集成电路制造领域中的学术交流与协同创新，重点聚焦光刻、刻蚀、离子注入、量检测、清洗及封装等半导体装备重点环节中的等离子体基础科学问题与关键共性技术。

黄播app 付洋洋副教授担任论坛主席，开幕式由中国科学院电工研究所章程主持。北京市科学技术协会党组成员、副主席孟凡兴，中国电工技术学会等离子体及应用专业委员会主任委员、武汉大学电气与自动化学院院长邵涛先后致开幕辞。出席本次论坛的特邀嘉宾还包括：北京奕摩集成电路卓越工程师创新研究院常务副院长王丽君，北京联合大学王福贞教授，清华大学王新新教授，北京航空航天大学王海兴教授，以及来自等离子体国产期刊《Plasma Science and Technology》的编辑部代表。

本次论坛汇聚了产学研各界代表，共吸引了清华大学、浙江大学、西安交通大学、华中科技大学、北京航空航天大学、武汉大学等24所 高校，中国科学院电工所、物理所、微电子所，以及上海光机所、中国航空研究院等7家科研院所，以及北方华创、中微公司、新凯来、中科飞测、新毅东、恒运昌等17家企业参加。

【开幕式】

开幕式上，孟凡兴代表北京市科协对论坛召开表示祝贺。他在致辞中指出，装备是芯片制造的根基，而等离子体技术就是装备的“心脏”。本次论坛聚焦半导体装备重点环节中的等离子体基础科学问题与关键共性技术，正是打开先进制程的核心钥匙。

孟凡兴致辞

邵涛在致辞中指出，等离子体技术正加速向集成电路制造等国家战略需求领域拓展，在半导体装备、刻蚀工艺、光源、诊断和模拟等方向具有重要应用价值，期待通过本次论坛促进基础研究与产业需求深度融合，推动等离子体科学服务我国集成电路产业创新发展。

邵涛致辞

参会代表合影

【主旨报告】

在主旨报告环节，论坛邀请了清华大学付洋洋副教授、北京航空航天大学王海兴教授、西安交通大学朱益飞研究员、北京理工大学郑博聪教授、大连理工大学张权治教授、东南大学仲林林教授、中国科学院电工研究所黄邦斗副研究员、哈尔滨工业大学赵永蓬教授、北京航空航天大学林楠教授、北京航空航天大学余霞教授、重庆大学熊青教授、武汉理工大学张雅教授、北京印刷学院刘忠伟教授、中国科学院微电子研究所高级工程师王倩、上海复享光学股份有限公司创始人殷海玮博士，系统介绍了等离子体技术在光刻光源、刻蚀工艺、量检测光源及国产仿真软件等方向的最新研究成果。

主旨报告专家及报告现场

主旨报告内容紧贴芯片制造前沿，与会嘉宾反响热烈，现场的交流与讨论氛围极其浓厚。

主旨报告期间参会人员提问交流

【特色活动】

6月6日下午，论坛特别组织参观了北京集成电路产教融合基地清华展厅，深入了解清华大学与北京经济技术开发区深化合作、共同服务国家自主可控大局，推进集成电路“教育-产业-人才-科技”一体化协同发展的创新实践与示范成果。

参观产教融合基地清华展厅

论坛邀请PST期刊编辑张文瑾博士分享了办刊理念、期刊发表、审稿周期、出版流程、期刊宣传等内容，为与会代表搭建起深入了解期刊、精准对接投稿的高效桥梁。

PST期刊介绍

闭幕式上，论坛主席付洋洋向全体与会专家学者、企业代表的积极参与表示感谢。他指出，未来将继续深化校企合作，持续搭建高质量的交流合作平台，携手各界共同推动我国集成电路产业的高质量创新发展。

付洋洋闭幕致辞

志愿者合影

本次论坛取得圆满成功，促进了高校、科研院所和企业之间的交流合作，对推动等离子体科学与集成电路制造技术融合、促进相关基础研究和工程应用协同创新具有重要意义。